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Persona

文字圖層

選取文字圖層並展開「文字」,設定文字內容、系統字型、排版對齊、2D 邊框陰影與 3D 擠出倒角。

文字圖層

文字圖層可將自訂文字內容作為獨立圖層放置於舞台中:支援呈現直播標題、留言提示、捲動公告、房間規範或歌詞字幕。

可透過以下兩種方式向場景中加入文字:

  • 素材庫:在 素材庫 的文字分類下輸入內容,點擊新增至場景即可產生文字圖層
  • 剪貼簿貼上:在視窗任意位置按下 ⌘/Ctrl+V 貼上剪貼簿中的純文字即可直接建立文字圖層(在文字輸入框取得焦點時游標保留原生文字輸入邏輯;在 直播模式 下純文字貼上將被封鎖,防止意外將剪貼簿中的金鑰等敏感資訊曝光於畫面上)

文字圖層跨 2D 與 3D 空間 通用:2D 模式下作為清晰的螢幕平面向量圖層參與堆疊;3D 模式下轉換為 Blender 風格的立體擠出網格幾何體,接受場景即時光源照射與陰影投射。

選取文字圖層後,詳細資訊面板將展示文字專屬設定:

欄位說明
文字多行純文字內容,上限 10,000 字元。直接在控制面板的輸入框中編輯,支援系統輸入法(IME)
字型本機已安裝的系統字型家族。下拉式清單會即時呈現目前文字首行在各字型下的字樣預覽,並標註樣式數量與在地化別名。若目標電腦缺少該字型,將自動退回至同家族中最接近的字重,或系統預設無襯線字型
樣式字型家族提供的真實字形變體(如 Regular、Bold、Semibold、Italic 等),避免人工合成粗體
大小文字字級(像素)。在 3D 空間中按 1000 像素/公尺對應換算
色彩文字本體基礎填色
對齊水平對齊方式:靠左對齊、置中對齊、靠右對齊與兩端對齊。此設定同時決定文字在內容增減時保持固定的對齊錨點
垂直對齊垂直對齊方式:靠上、置中、基準線(首行基準線)與靠下對齊
字元間距字元之間的額外間隙(em),預設 0
單字間距單字間空格的額外寬度(em),作用於標準空格字元,預設 0
行高以字級為基準的行距倍數,預設 1.25×
傾斜文字斜切傾斜度(−1 至 1)。適用於為缺少原生斜體字形的字型呈現斜體外觀

排版與文字方塊

文字圖層提供可調整的虛擬排版外框,用於精確規劃文字的版面占用:

欄位說明
寬度 與 高度文字方塊尺寸(像素)。保持為 0 時外框自動貼合文字邊界;指定正數寬度時文字將自動換行(支援避頭尾禁則與西文斷詞)
溢位文字超出文字方塊邊界時的處理策略:溢位(允許超出外框繼續顯示)、縮放以符合(自動縮小文字以剛好容納於框內)或截斷(捨棄超出外框的文字行)

2D 樣式與底板

在 2D 空間下,文字圖層由向量光柵化著色器繪製,內建專用的邊框、陰影與背景底板設定(不依賴圖層後製特效):

  • 邊框:提供寬度(像素)、色彩以及轉角樣式(圓角 Round、尖角 Sharp 或斜角 Beveled)
  • 陰影:提供不透明度(%)、色彩、水平與垂直偏移(偏移 X 與 偏移 Y,像素)以及模糊半徑(像素)
  • 背景:在文字底層繪製帶襯底的底板,提供不透明度(%)、色彩、內距(Padding,像素)以及圓角半徑(Corner Radius,像素)

2D 文字在舞台縮放、視窗縮放或高解析度匯出時,會在固定比例步進點自動以全解析度重新繪製,確保文字與邊緣始終保持清晰銳利。

3D 幾何與材質

在 3D 空間下,文字透過三維輪廓解析轉換為立體網格,並提供三維專屬控制項:

控制項說明
擠出幾何體沿深度方向的擠出厚度(em),取值 0 至 5
倒角文字邊緣的倒角切削深度(em),賦予文字柔和的高光立體輪廓
倒角細分倒角曲面的分段細分程度(1 至 10),數值越高曲面過渡越圓潤
粗糙度 與 金屬度基於 PBR 物理材質的標準光照反應屬性,取值 0 至 1
自發光使文字以自身色彩散發輝光,可配合全場景 泛光特效 營造霓虹發光字效果
面向相機開啟後文字在每一影格自動朝向視角相機構圖,忽略圖層自身的空間旋轉姿態

3D 文字的邊框與外部陰影由 圖層特效(如邊框 Outline 與陰影 Drop Shadow)直接驅動。

卡拉 OK 與即時文字

文字圖層不僅支援靜態文字呈現,還深度整合至外部控制與舞台演出流程中:

  • 卡拉 OK 歌詞:透過自動化的 歌詞 動作,可在文字圖層上逐字唱出 LRC 歌詞。面板底部提供已演唱顏色(Sung Color)與已演唱邊框(Sung Outline,僅限 2D)設定項,在歌詞演唱推進時平滑擦除變色
  • 即時文字:可動態推送到文字圖層的暫時文字,直接在舞台呈現,不寫入場景檔案,亦不產生復原歷史紀錄。可透過以下方式推送:
  • 還原已儲存文字:當舞台正顯示外部暫時文字時,面板中將出現即時文字提示列與顯示已儲存文字按鈕。點擊即可立即撤除暫時文字並還原場景中儲存的原始文字;直接在文字框中鍵入新內容或切換場景時,暫時文字亦會自動結束

最後更新於 2026年10月21日

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